300MW机组检修文件下载

weixin_39821746 2019-05-14 12:30:17

• 1准备工作
• 开工作票，办好安全措施；
• 准备起吊工具，检修工具及现场照明等起吊工具应符合检修及安规要求；
• 风机停运前，测量轴承温度、振动检查漏风异音等情况
• 2联轴器检查
• 拆下防护罩及上部机壳后详细检查联轴器及螺栓
• 复查联轴器中心，拆前要打好标记，拆下的螺丝应妥善保管.
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• 1准备工作 • 开工作票，办好安全措施； • 准备起吊工具，检修工具及现场照明等起吊工具应符合检修及安规要求； • 风机停运前，测量轴承温度、振动检查漏风异音等情况 • 2联轴器检查 • 拆下防护罩及上部机壳后详细检查联轴器及螺栓 • 复查联轴器中心，拆前要打好标记，拆下的螺丝应妥善保管.

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设定现实的截止日期截止日期和里程碑是软件开发人员和他们的客户之间的一个常见的挫折来源。这个问题有两个方面:第一，客户可能无法理解为什么特定的最后期限不能被满足；第二，开发人员和项目经理可能没有清楚地沟通某些任务和里程碑需要多长时间。满足客户的需求很重要。但是过于激进地设定最后期限会导致对时间表的失望，更糟糕的是，会导致需要在以后补救的错误或遗漏。设定现实的截止日期，帮助客户理解在你们商定的截止日期中起作用的工作和时间框架。如果一个项目看起来可能比最初商定的时间要长，那就尽早公开地与你的客户沟通。并重复。

光刻技术是半导体制造过程中的关键步骤之一，广泛应用于集成电路（IC）的设计和生产。其基本原理是利用光的干涉和衍射特性，通过光刻胶将光信号转化为物理图像，进而在基材上定义出微米级甚至纳米级的图形结构。光刻机的核心功能是将设计好的电路图案以高精度投影到硅片表面的光刻胶层上，这是实现高集成度和高性能芯片的重要环节。在光刻过程中，首先需要将设计文件转化为光刻掩膜（或称为掩模），该掩膜包含了目标电路的详细图案。当光源通过掩膜照射在涂有光刻胶的硅片上时，光照射区域的光刻胶发生化学反应，形成与掩膜设计相匹配的图形。

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