磁控溅射PVD阳极设计下载

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射频磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜过程中迟滞效应的消除

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溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响

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一种基于磁控旋转电弧传感器的焊缝偏差预测方法

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PVD磁控溅射镀膜工艺理论

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直流磁控溅射法制备γ-Al2O3薄膜的介电特性

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磁控溅射技术的发展背景、现状及前景

直流磁控溅射制备超导TiN薄膜

直流磁控溅射制备超导TiN薄膜,陈志平,曹春海,在室温下,采用直流磁控溅射在高阻硅上生长了TiN薄膜,分别设定溅射功率、溅射气压以及N2和Ar的气体流量比为单一变量,获得了不同�

安防与监控中的应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计

摘 要:本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计,重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。  肇庆市大力真空设备有限公司生产的...

微纳设备_磁控溅射镀膜设备

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磁控溅射制备纳米厚度的连续银膜

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粉末靶材射频磁控溅射法制备BaSn0.15Ti0.85O3薄膜及其性能研究

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磁控溅射技术

磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为直流溅射和射频溅射两种,等等介绍了磁控溅射技术的发展与原理。

论文研究 - 衬底温度对射频磁控溅射制备Au / SiO2纳米复合薄膜结构和光学性能的影响

通过磁控管射频(rf)溅射技术在各种沉积条件下生长包含金纳米颗粒的二氧化硅膜。 比较了在400℃衬底温度下沉积的复合膜与在室温下沉积的复合膜的结构和光学性质。 研究了AuNPs的衬底温度对Au / SiO2纳米复合薄膜...

工业电子中的磁控溅射制作金红石——TiO2

2.山东理工大学化学工程学院,山东 淄博)摘要:用磁控溅射方法制备了粒径大小为20nm的金红石——TiO2,用X射线(XRD)和扫描电镜(SEM)观察表面形貌,局部表观致密,颗粒大小均匀。 关键词:磁控溅射;纳米粒子;...

磁控溅射法制备BaTiO3/Nb:SrTiO3薄膜的漏电流机制分析

磁控溅射法制备BaTiO3/Nb:SrTiO3薄膜的漏电流机制分析,潘瑞琨,章天金,钙钛矿氧化物钛酸钡(BaTiO3)具有高介电常数及铁电、压电和正温度系数效应等优异的电学性能, 广泛用于电子陶瓷工业中,也是高密度随�

磁控溅射技术新进展及应用

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磁控溅射启辉电压波动和机理

磁控溅射启辉电压波动和机理,牟宗信,邓新绿,磁控溅射沉积技术被广泛应用于沉积各种功能薄膜。深入研究其放电特性对控制沉积过程有重要意义。在磁控靶表面,和电场正交的磁场

直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究

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磁控溅射制备TaN薄膜研究

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用于陶瓷,金属材料的(直流,射频)磁控溅射操作步骤

磁控溅射 各种形式的设备 各种材料镀膜设备

磁控溅射薄膜附着性能的影响因素

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多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究

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直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射

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反应磁控溅射方法制备BCN薄膜的高温抗氧化性

为了考察BCN薄膜的高温抗氧化,用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了BCN硬质薄膜材料,用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和显微硬度计等方法研究了BCN薄膜的...

磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管

磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管,张莹莹,王雄,采用磁控溅射方法在玻璃衬底上生长了In2O3晶体薄膜。该薄膜具有(111)晶面择优取向,晶粒尺寸达到33 nm。利用光刻工艺制作了以In2O3晶

磁控溅射镀膜技术发展

摘 要:磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅 ...改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射溅射镀膜 技术开辟了新的应用领域。

溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响

溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响,文斌,刘超前,本文基于脉冲直流磁控溅射技术,利用自制单一Cu2ZnSnS4 (CZTS)陶瓷靶材于室温下在普通纳钙玻璃上沉积了CZTS薄膜,主要研究了沉积过程中...

CdCl2退火热处理对磁控溅射CdTe薄膜性能的影响

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磁控溅射掺铝氧化锌薄膜的Ar气工艺条件研究

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