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行业分类-设备装置-一种金属掺杂的小孔径陶瓷膜的制备方法.zip下载
weixin_39820535
2021-09-13 14:58:22
行业分类-设备装置-一种金属掺杂的小孔径陶瓷膜的制备方法 , 相关下载链接:
https://download.csdn.net/download/programcx/22441355?utm_source=bbsseo
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几种形貌贵
金属
纳米材料的
制备
方法
一、棒状纳米材料的
制备
1、化学还原的
方法
种子生长的
方法
是化学还原
方法
的
一种
。用弱的还原剂将晶粒从贵
金属
的先驱中还原出来,在表面活性剂的作用下,晶粒生长成为晶种。 生长溶液中,先驱体溶液、表面活性剂、弱的还原剂(不足以将贵
金属
离子还原成贵
金属
晶粒)混合均匀,形成胶束溶液。在生长溶液中加入一定量的金纳米颗粒晶种(约3-5nm),在表面活性剂分子的作用下,生长溶液中的先驱体被还原不断地提
膜电极组件(MEA)改良
制备
方法
的分析与介绍
本文还有配套的精品资源,点击获取 简介:膜电极组件(MEA)是燃料电池中的关键组件,影响着电池系统的效率和稳定性。本资料详细分析了MEA的
制备
过程和改良
方法
,包括催化剂层、质子交换膜和气体扩散层的构成,以及传统
制备
方法
的局限性和改良
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的创新点。改良
方法
涉及化学气相沉积、电化学沉积技术,纳米结构材料的应用,热压工艺的优化,以及新型质子交换膜材料的研发。此外,重点介绍了催化剂...
相变材料二氧化钒薄膜
制备
总结
相变材料二氧化钒薄膜
制备
的方案 注:文中涉及到的部分图片可能来源于其它文献,这里仅做引用 溅射法 溅射法通常利用Ar粒子轰击V或五氧化二钒靶材产生溅射效应,使得粒子从靶材表面射出,运动过程中与氧气反应,继而在衬底表面沉积形成氧化钒薄膜。 溅射过程中,影响成膜质量的因素很多,主要有氧分压、溅射时间、溅射功率、基底温度、退火时间、退火温度、基底材料等。 PLD 脉冲激光沉积法利用买成激光加热V或者五...
Ti3SiC2 陶瓷MAX相化合物的
制备
方法
技术
本文所述单相Ti3SiC2三元
金属
陶瓷的
制备
方法
,以Ti粉、Si粉、C粉和Al粉为原料,步骤如下: 将原料Ti粉、Si粉、C粉和Al粉按摩尔比MTi:MSi:MC:MAl=3:1.5:1.9:0.5称重配料,并混合均匀得混合料; 将步骤(1)所得混合料加入模具,在10~24Mpa压力下形成生坯; 将步骤(2)
制备
的生坯放入烧结炉中,在Ar气氛围或真空条件下升温至1310~1500℃保温烧结至少2h,烧结时间到达后随炉冷却至室温即得到单相Ti3SiC2三元
金属
陶瓷。采用本发明专利技术所述
方法
,可
制备
出单
掺杂
浓度对
金属
-半导体接触的性质
因此,
掺杂
浓度的提高可以使
金属
-半导体接触从肖特基接触逐渐过渡到类似欧姆接触的状态。
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