射频磁控溅射制备(In, Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质.docx下载

weixin_39821620 2021-09-15 09:08:53

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在这个文档中，重点讨论的是通过射频磁控溅射法制备的(In, Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质。ZnO（氧化锌）是一种宽带隙半导体，具有较高的激子束缚能和良好的化学稳定性，这些特性使得它成为稀磁半导体研究的重要...

标题中的“磁控溅射制备镁镓共掺氧化锌透明半导体薄膜及其性能研究”是一项科研工作，专注于通过磁控溅射技术来制造镁镓共掺的氧化锌（MGZO）透明半导体薄膜，并探讨这种薄膜的性能。这项研究是半导体材料科学的一个...

"磁控溅射法制备薄膜材料实验报告" 磁控溅射法是一种常用的...通过本实验，学生掌握了磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序，了解了磁控溅射法的原理和应用，获得了金属铜膜，并对其电学性能和光学性能进行了测量和分析。

磁控溅射是一种广泛用于制备薄膜材料的技术，尤其在IT行业中，它在微电子、纳米技术和光电子学等领域有着重要应用。该方法基于物理气相沉积（PVD）原理，通过将高能粒子（例如Ar+离子）加速并撞击靶材（在此案例中为...

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