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射频磁控溅射制备(In, Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质.docx下载
weixin_39821620
2021-09-15 09:08:53
射频磁控溅射制备(In, Co)共掺ZnO薄膜的电学和磁学性质.docx , 相关下载链接:
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射频
磁控溅射
制备
(In, Co)
共
掺
ZnO
薄膜
的
电学
和
磁学
性质
.
docx
在这个文档中,重点讨论的是通过
射频
磁控溅射
法
制备
的(In, Co)
共
掺
ZnO
薄膜
的
电学
和
磁学
性质
。
ZnO
(氧化锌)是一种宽带隙半导体,具有较高的激子束缚能和良好的化学稳定性,这些特性使得它成为稀磁半导体研究的重要...
磁控溅射
制备
镁镓
共
掺
氧化锌透明半导体
薄膜
及其性能研究.pdf
标题中的“
磁控溅射
制备
镁镓
共
掺
氧化锌透明半导体
薄膜
及其性能研究”是一项科研工作,专注于通过
磁控溅射
技术来制造镁镓
共
掺
的氧化锌(MGZO)透明半导体
薄膜
,并探讨这种
薄膜
的性能。这项研究是半导体材料科学的一个...
磁控溅射
法
制备
薄膜
材料实验报告.doc
"
磁控溅射
法
制备
薄膜
材料实验报告"
磁控溅射
法是一种常用的...通过本实验,学生掌握了
磁控溅射
制备
薄膜
的原理和实验程序,了解了
磁控溅射
法的原理和应用,获得了金属铜膜,并对其
电学
性能和光学性能进行了测量和分析。
磁控溅射
方法
制备
铜
薄膜
实验.
docx
磁控溅射
是一种广泛用于
制备
薄膜
材料的技术,尤其在IT行业中,它在微电子、纳米技术和光电子学等领域有着重要应用。该方法基于物理气相沉积(PVD)原理,通过将高能粒子(例如Ar+离子)加速并撞击靶材(在此案例中为...
室温下
射频
磁控溅射
制备
ZnO
:Al透明导电
薄膜
及其性能研究
采用
射频
磁控溅射
技术,在室温下,以
ZnO
:Al2O3(2%Al2O3(质量比))为靶材,在石英玻璃基底上,采用不同工艺条件
制备
了
ZnO
:Al(AZO)
薄膜
。使用扫描电子显微镜观察了
薄膜
的表面形貌,X射线衍射分析了
薄膜
的结构,四探针测量仪...
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