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3D IC中Memory-on-Logic堆叠测试的DFT解决方案与工程实践 在半导体行业，随着摩尔定律逼近物理极限，3D IC技术通过芯片垂直堆叠实现性能提升和异构集成，已成为重要发展方向。其核心原理是利用硅通孔（TSV）或微凸块实现芯片间电气互连，将多个不同功能的芯片（如逻辑芯片与存储芯片）集成在一个封装内。这项技术的核心价值在于能大幅提升系统性能、降低功耗并实现更小的封装尺寸。然而，芯片堆叠后，传统的测试方法面临巨大挑战，尤其是测试访问存在物理屏障，无法直接探测被覆盖的芯片接口。为此，可测试性设计（DFT）成为确保3D IC可靠性与量产可行性的关键技术。它通过在设计阶段植入专用 阅读详情

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