试验十电感耦合等离子体化学气相沉积法CCP制备硅基薄膜一.pdf下载

weixin_39821746 2022-01-12 14:16:25
试验十电感耦合等离子体化学气相沉积法CCP制备硅基薄膜一.pdf , 相关下载链接：https://download.csdn.net/download/weixin_40895192/31792589?utm_source=bbsseo
...全文
19 回复 打赏 收藏 转发到动态 举报
AI 作业
写回复
用AI写文章
回复
切换为时间正序
请发表友善的回复…
发表回复
试验十电感耦合等离子体化学气相沉积法CCP制备硅基薄膜一.pdf
试验十电感耦合等离子体化学气相沉积法CCP制备硅基薄膜一.pdf
容性耦合等离子体(CCP)和电感耦合等离子体(ICP)
将腔体中的两个电极，一个加射频电流，另一个接地，由两电极之间的反应气体形成的等离子体被称为电容耦合等离子体(Capaciltively Coupled Plasma，CCP)。 高频电流经感应线圈产生高频电磁场，腔体内反应气体形成的...
电容耦合等离子刻蚀（CCP）
刻蚀速度更快：因为CCP刻蚀系统能够产生高密度的等离子体，RF（射频）电源产生的电场可以加速离子，使它们以更高的能量撞击待刻蚀的材料，从而提高刻蚀速度。一个知识分享的社区，陆续上传一些芯片制造各工序，封装...
等离子体技术【五】--电容耦合射频放电CCP
摘自《等离子体放电原理与材料处理》1.3.1 摘自《等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用》2.3.1
原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展
原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展 Atomic Layer Deposition (ALD) and Chemical Vapor Deposition (CVD) of Copper-based Metallization for Microelectronic Fabrication
下载资源悬赏专区

13,656

社区成员

12,674,760

社区内容

发帖
与我相关
我的任务
社区描述
CSDN 下载资源悬赏专区
其他 技术论坛（原bbs）
社区管理员
  • 下载资源悬赏专区社区
加入社区
  • 近7日
  • 近30日
  • 至今

加载中

查看更多榜单
社区公告
暂无公告

试试用AI创作助手写篇文章吧

+ 用AI写文章