HUAWEI DevEco Studio 3.1版本发布,配套ArkTS声明式开发全面升级

HarmonyOS开发者社区 2022-11-17 11:45:38

 原文:HUAWEI DevEco Studio 3.1版本发布,配套ArkTS声明式开发全面升级,点击链接查看更多技术内容。

 

目录

一、快速诊断开发环境

二、差异化构建打包

三、跨语言混合调试

四、信息快捷获取

HUAWEI DevEco Studio 3.1 Canary新功能一览

1、新增特性:

2、增强特性:

3、已解决的问题:


今年开发者大会发布了HarmonyOS应用开发套件DevEco Studio 3.1版本,展示了DevEco Studio 3.1版本的关键特性。

HUAWEI DevEco Studio是开发HarmonyOS应用及服务的一站式集成开发环境(IDE),DevEco Studio 3.1将配套ArkTS声明式开发全面升级,高效开发,快速调试,快来升级体验。

 

官网下载安装包(复制到浏览器打开):

HUAWEI DevEco Studio和SDK下载和升级 | HarmonyOS开发者

 

DevEco Studio 3.1计划里程碑展示

 

 

接下来,让我们一起看看发布的DevEco Studio 3.1 Canary作为DevEco Studio 3.1的早期体验版本带来了哪些新特性。

 

一、快速诊断开发环境

 

开发环境依赖网络、nodejs,npm,SDK等配置,当配置有问题时,可能无法进行应用开发,为了帮助开发者快速诊断环境问题,提升环境配置效率,DevEco Studio 3.1新增了环境诊断特性,可以识别配置项是否满足开发要求,针对不满足的配置项,给出解决方案及建议。

 

初次使用,DevEco Studio 3.1会自动检查环境配置项,如有问题会弹出消息提醒,开发者可以点击链接进入诊断界面,查看诊断详情并根据建议处理。

 

开发者也可以通过Help菜单进入环境诊断界面,自行诊断环境问题。

 

快速诊断开发环境

 

二、差异化构建打包

 

很多应用需要根据具体业务需求来定制对应场景的工程,这些工程之间可能只存在少量的代码差异,开发者需要创建多个工程来适配不同的场景。

 

针对此问题,DevEco Studio 3.1支持通过少量的差异化配置,在编译构建过程中,实现一个应用构建出不同的目标产物版本,从而实现源代码、资源文件等的高效复用。

 

通常一个工程由多个模块组成,工程的构建产物为APP,模块的构建产物则为HAP。因业务场景需求不同,开发应用时,在工程中会定制不同的APP包,在模块下会根据功能、资源、配置会定制不同HAP包,其中定制化的APP包即为product,定制化的HAP包即为target,一个工程可以自定义多个product,一个模块可自定义多个target。

 

新建的工程会有一个默认的名为default的product,新建的模块会有一个默认的名为default的target,通过在工程级别/模块级别下build-profile.json5文件内进行自定义配置product和target,就能实现一个工程构建出多个不同的APP包,或一个模块构建出不同HAP包。

 

同时,DevEco Studio 3.1提供了管理product / target的界面,来完成product target模型上下文的切换。

 

差异化构建打包

 

三、跨语言混合调试

 

开发HarmonyOS应用时,除ArkTS语言外,针对部分高性能场景还可能会使用到C/C++语言,由于在调试时,每次只能调试一种语言,导致频繁切换调试会话、重启应用,调试效率低。

 

DevEco Studio 3.1提供跨语言调试功能,支持同时调试两种语言,只需管理一个调试会话,支持在ArkTS代码Step Into跳转到C/C++代码,缝合不同语言调试堆栈,呈现完整的调用链,可以让调试过程更便捷更高效,整体操作体验与单一语言调试一致。

 

调试断点在两种语言间跳转

 

四、信息快捷获取

 

快速开始聚合了丰富的开发资源,如快速入门,示例教程,开发指南、API参考、What’s New、问题求助等。

 

本次升级优化界面体验,新增参考文档快速查阅能力,开发者在IDE编辑器中,选中对应的ArkTS API接口/ArkTS组件/JS组件,通过右键点击“Show in API Reference”,即可查阅该API接口/组件参考文档。同时FAQ支持与IDE报错日志的联动,在开发遇到问题时,可以通过报错日志中的链接快速查看问题的解决方案。

 

 

同时在开发者大会上展示了DevEco Studio 3.1后续版本将发布的一些关键特性,如智能辅助编程、热重载Hot Reload、多工程开发模式、端云一体化开发、性能ArkTS引擎-AOT编译,深度调优等特性,更多特性敬请期待。

 

HUAWEI DevEco Studio 3.1 Canary新功能一览

 

1、新增特性:

 

1)新增支持应用/服务开发环境的诊断功能,能够检测开发环境是否完备,确保开发者拥有良好的开发体验。若检查结果中存在不满足的检查项,建议您根据修复建议进行调整。具体请参考DevEco Studio开发环境诊断。

 

2)新增支持基于Hvigor工程定制多目标构建产物特性,应用厂商会根据不同的部署环境,不同的目标人群,不同的运行环境等,将同一个应用定制为不同的版本,如普通版、VIP版、免费版、付费版等。通过在DevEco Studio 3.1中进行少量的差异化处理,在编译构建过程中实现一个应用构建出不同的目标产物版本,实现源代码、资源文件等的高效复用。具体请参考定制多目标构建产物。

 

3)新增支持ArkTS/JS与C/C++跨语言调试特性,在C/C++工程中,采用ArkTS/JS与C/C++进行混合开发,能够在ArkTS或JS调用C/C++方法处,直接进入C/C++代码中进行调试,方便开发者快速发现并解决跨语言调用相关代码的问题。具体请参考ArkTS/JS与C/C++工程跨语言调试。

 

4)新增支持API参考文档快速查询特性,通过在编辑器中调用ArkTS API接口或ArkTS/JS组件时,可以通过编辑器快速、精准的查询其对应的参考类文档(DevEco Studio集成了离线版API参考类文档,最新版本请参考官网HarmonyOS API参考和OpenHarmony API参考),便于开发者快速查阅相关内容。

 

2、增强特性:

 

1)支持HarmonyOS应用/服务3.1.0(API 9)的应用/服务开发,包括工程模板、HarmonyOS SDK等。

 

2)工程向导新增About Ability、Business Card Ability、Category Ability等多个应用/服务开发模板,开发者可根据应用场景选择对应模板快速创建应用/服务工程。

 

3)API Version 8~9工程编译构建性能优化,支持任务级并行与增量构建,提升了构建速度。

4)远程模拟器支持HarmonyOS 3.1.0(API 9)镜像的远程设备P50,方便开发者调试3.1.0(API

9)应用/服务。

 

5)OpenHarmony日志功能支持打印FaultLog,便于应用开发者快速查询、定位、导出应用故障信息。

 

3、已解决的问题:

 

1)解决了OpenHarmony SDK的安装路径不支持空格的问题。

 

2)解决了在ArkTS工程中,使用Inspector双向预览功能时,部分组件的属性在Attributes属性列表中不显示的问题。

 

3)解决了在OpenHarmony的ArkTS工程中,连续修改DataPanel组件的values属性值可能导致预览器崩溃的问题。

 

4)解决了在编译过程中小概率出现内存使用过高,导致编译失败的问题。

 

5)解决了电脑主机存在双显卡时,运行本地模拟器出错的问题。

 

6)解决了P50远程模拟器上无法打印HiLog日志的问题。

 

7)解决了在预览OpenHarmony API 9工程时,PreviewLog无法打印Console日志及HiLog日志的问题。

 

8)解决了在macOS系统升级到12.3及以上版本时,因系统默认不带Python 2.7版本,导致启动C++调试失败的问题。

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该数据集名为“6200印章数据集-圆椭方矩-红蓝灰”,包含6200多张印章图像,涵盖圆形、椭圆形、方形和矩形四种几何形状,并包含红色、蓝色和灰色三种颜色。其目标是服务于印章识别、印章文本识别以及印章OCR技术的研究与开发。由于形状和颜色种类丰富,该数据集有助于开发者训练出适应性更强的识别系统,以应对不同应用场景。 这些印章图像均为真实印章的高清照片,能够为印章识别算法提供充足的视觉信息。不过,该数据集不包含预标注的地面真实(GT)标签,因此开发者在使用时可能需要进行一定的数据清洗和标注,才能满足模型训练要求。尽管增加了额外工作量,但其规模和多样性仍使其成为重要的研究资源。 印章识别技术广泛应用于文档审核、版权验证、金融交易验证等领域。随着机器学习和深度学习不断发展,印章识别算法已从简单的模板匹配逐渐转向更复杂的图像处理和模识别方法。这一进步需要大量高质量训练数据,而此类数据集正是满足这一需求的关键工具之一。 考虑到印章识别在实际应用中会遇到磨损、变形以及复杂背景等问题,该数据集在设计时也兼顾了这些现实挑战。通过提供不同形状和颜色的印章图像,它有助于研究者开发出能够应对真实世界复杂情况的算法。同时,由于缺乏GT标签,研究者在训练模型前还需解决如何高效、准确地进行图像标注的问题,这既提高了研究难度,也带来了更贴近实际应用的挑战与机会。 “6200印章数据集-圆椭方矩-红蓝灰”是一个面向印章识别技术的综合性训练数据集。它的推出对推动印章识别技术发展具有重要意义。通过有效利用该数据集,开发者可以构建更强大、更准确的印章识别系统,进一步促进相关技术的落地应用。
源码下载地址: https://pan.quark.cn/s/ae487cba003d 在计算机视觉与图像处理技术领域中,OpenCV作为一个被广泛采纳的开源框架,提供了大量的函数和工具,用于对图像进行操作和分析。本篇文章将深入阐释OpenCV在处理含有RGBA通道的图像时的应用,以及如何进行通道的分离与融合。 让我们首先掌握RGBA图像的基本构成。RGB分别象征红色(Red)、绿色(Green)以及蓝色(Blue),这三种颜色的不同强度组合能够产生多样的色彩效果。而A则代表Alpha通道,它用来指示图像的透明程度或完全不透明性。在0至255的数值区间内,0值代表完全透明,255值则表示完全不透明。当处理PNG等支持透明特性的图像格时,RGBA模型被频繁使用。 在OpenCV软件中,我们可以借助`cv::Mat`结构体来储存和操作图像数据。对于RGBA图像,`cv::Mat`结构体的数据类型通常是`CV_8UC4`,这表明每个像素点由4个8位无符号整数(Uint8)构成,分别对应R、G、B和A四个通道。 接下来,我们将讨论如何从RGBA图像中分离各个通道。在OpenCV中,`cv::split()`函数能够实现这一功能。该函数会构建一个新的`cv::Mat`数组,数组中的每个元素都是原图像的一个独立通道。例如: ```cpp cv::Mat rgbaImage; // 加载RGBA图像 cv::imread("image.png", cv::IMREAD_UNCHANGED); // 分离通道 std::vector channels; cv::split(rgbaImage, channels); cv::Mat redChannel = ...
代码转载自:https://pan.quark.cn/s/a4b39357ea24 在信息技术领域,"后处理"一般是指在计算机辅助设计(CAD)或计算机辅助制造(CAM)系统中,将设计图纸转化为机器设备操作指令的过程。在此情形下,"佳铁雕刻机后处理.rar"是一个压缩文件,其中存放了与佳铁雕刻机相关的后处理工具或配置数据。佳铁雕刻机是一种常见的数字控制机床,主要用于精细的雕刻和加工作业,比如电脑锣、精雕机或雕铣机等设备。 雕刻机后处理包含的核心知识要点有: 1. **数字控制(NC)代码的编制**:当在CAD/CAM软件中完成工件设计后,需要将其转换为机床能够识别的数字控制指令。这一步骤即为后处理,它将三维设计转化为一系列的G代码和M代码,这些指令指导雕刻机的刀具如何移动。 2. **后处理器的个性化设置**:由于不同的雕刻机可能配备不同的控制系统和机械属性,因此需要专门设计的后处理器来适配这些特性。针对佳铁雕刻机的后处理器可能包含特定的参数调整,例如进给速率、切削深度、刀具路径优化等,以实现最佳的加工效果和效率。 3. **G代码与M代码的应用**:G代码是控制刀具运动的指令,例如G00表示快速移动,G01表示线性插补,G02和G03分别代表顺时针和逆时针的圆弧插补;M代码则是辅助操作指令,如M03代表主轴正转,M05代表主轴停转。这些指令的组合构成了完整的加工程序。 4. **机床参数设定**:后处理流程会考虑到机床的具体参数,包括电机类型、丝杠螺距、工作台尺寸等,以确保生成的NC代码与实际设备相符。 5. **刀具路径的优化**:高效的后处理能够改进刀具的运动轨迹,减少无效运行时间,提升生产效率,同时避免刀具与工件的碰撞以及工件形变,确保加工的精确度。...

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