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【信息科学与工程学】计算机科学与自动化——第十六篇 GPU 05 工艺(3)
序号工艺工序名称工艺步骤核心参数其他参数关键部件及原材料控制指标加工设备类型加工工艺/技巧1衬底准备1.1 硅晶圆清洗 1.2 热氧化生长薄SiO₂层(1-5nm) 1.3 衬底温度稳定温度: 600-800°C 厚度: 1-5nm 表面粗糙度: <0.2nm晶向: (100) 晶圆尺寸: 300mm 掺杂浓度: 1-10 Ω·cm p型Si晶圆、O₂气体、清洗液(SC1/SC2)氧化层厚度均匀性(±0.1nm) 界面态密度(Dit)<1e10 cm⁻²eV⁻¹清
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